ストライクめっき,ストライク／フラッシュめっき,フラッシュ
電気めっき及び関連処理用語において、”d） めっき処理”に分類されている用語のうち、『ストライクめっき,ストライク』、『フラッシュめっき,フラッシュ』のJIS規格における定義その他について。
亜鉛メッキ、ニッケルメッキ、クロムメッキ、クロメート処理等、金属材料のメッキ加工（めっき加工）などに関する主な用語として、電気めっき及び関連処理用語（JIS H 0400）において、”d） めっき処理”に分類されている電気メッキ関連処理用語には、以下の、『ストライクめっき,ストライク』、『フラッシュめっき,フラッシュ』などの用語が定義されています。
電気めっき及び関連処理用語（JIS H 0400）
⇒【 d） めっき処理 】
分類： 電気めっき及び関連処理用語 > d） めっき処理
番号： 4033
用語： ストライクめっき,ストライク
定義：
a）後工程で行われる皮膜の析出を促進するための電着金属の薄膜。
b）この膜を得るために特に調製された溶液。
c）薄膜 a）を得るために、異なる組成の浴か、又は後の過程とは異なる作業条件で比較的短時間に行うめっき。
対応英語（参考）：
strike,
strike plating
分類： 電気めっき及び関連処理用語 > d） めっき処理
番号： 4034
用語： フラッシュめっき,フラッシュ
定義：
極めて短時間に行う薄いめっき方法。
参考：
この用語は、最終被覆だけに使用するとよい。同じ性質の中間皮膜には、ストライクを使用する。
対応英語（参考）：
flash,
flash plating
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