亜鉛メッキ,ニッケル,クロム,金属,加工,記号,方法等-JIS用語

 

核生成/析出電位/電気めっき範囲/一次電流分布



電気めっき及び関連処理用語において、”a) 一般”に分類されている用語のうち、『核生成』、『析出電位』、『電気めっき範囲(電気メッキ範囲)』、『一次電流分布』のJIS規格における定義その他について。

亜鉛メッキ、ニッケルメッキ、クロムメッキ、クロメート処理等、金属材料のメッキ加工(めっき加工)などに関する主な用語として、電気めっき及び関連処理用語(JIS H 0400)において、”a) 一般”に分類されている電気メッキ関連処理用語には、以下の、『核生成』、『析出電位』、『電気めっき範囲(電気メッキ範囲)』、『一次電流分布』などの用語が定義されています。

電気めっき及び関連処理用語(JIS H 0400)
⇒【 a) 一般 】


分類: 電気めっき及び関連処理用語 > a) 一般

番号: 1060

用語: 核生成

定義:
非電導性素地に電気めっきを行う際、析出の初期段階のサービスとしての役目を果たす触媒物質が吸着されるめっき。

対応英語(参考):
nucleation


分類: 電気めっき及び関連処理用語 > a) 一般

番号: 1061

用語: 析出電位

定義:
電析
(※1)又は電着において、固体生成物が析出し始める電位。

対応英語(参考):
depsition potential


分類: 電気めっき及び関連処理用語 > a) 一般

番号: 1062

用語: 電気めっき範囲

定義:
十分な電着が得られる電流密度の範囲。

対応英語(参考):
deposition range,
electroplating range,
plating range


分類: 電気めっき及び関連処理用語 > a) 一般

番号: 1063

用語: 一次電流分布

定義:
幾何学的な考察だけから予想される電極表面上の電流分布。

対応英語(参考):
primary current distribution


(※1)
電析とは、電解析出ともいい、電気分解によって、電極表面に物質が生成することです。
水素ガスの発生、金属の析出及び高分子膜の析出などがあります。

(※2)
電着とは、電気分解(単に電解ともいい、一対の電極を電解質溶液などのイオン伝導体に挿入し、外部電源から電流を流して化学変化を起こさせる操作)によって、電極表面に物質が付着して生成することです。