核生成／析出電位／電気めっき範囲／一次電流分布
電気めっき及び関連処理用語において、”a） 一般”に分類されている用語のうち、『核生成』、『析出電位』、『電気めっき範囲（電気メッキ範囲）』、『一次電流分布』のJIS規格における定義その他について。
亜鉛メッキ、ニッケルメッキ、クロムメッキ、クロメート処理等、金属材料のメッキ加工（めっき加工）などに関する主な用語として、電気めっき及び関連処理用語（JIS H 0400）において、”a） 一般”に分類されている電気メッキ関連処理用語には、以下の、『核生成』、『析出電位』、『電気めっき範囲（電気メッキ範囲）』、『一次電流分布』などの用語が定義されています。
電気めっき及び関連処理用語（JIS H 0400）
⇒【 a） 一般 】
分類： 電気めっき及び関連処理用語 > a） 一般
番号： 1060
用語： 核生成
定義：
非電導性素地に電気めっきを行う際、析出の初期段階のサービスとしての役目を果たす触媒物質が吸着されるめっき。
対応英語（参考）：
nucleation
分類： 電気めっき及び関連処理用語 > a） 一般
番号： 1061
用語： 析出電位
定義：
電析（※1）又は電着において、固体生成物が析出し始める電位。
対応英語（参考）：
depsition potential
分類： 電気めっき及び関連処理用語 > a） 一般
番号： 1062
用語： 電気めっき範囲
定義：
十分な電着が得られる電流密度の範囲。
対応英語（参考）：
deposition range,
electroplating range,
plating range
分類： 電気めっき及び関連処理用語 > a） 一般
番号： 1063
用語： 一次電流分布
定義：
幾何学的な考察だけから予想される電極表面上の電流分布。
対応英語（参考）：
primary current distribution
（※1）
電析とは、電解析出ともいい、電気分解によって、電極表面に物質が生成することです。
水素ガスの発生、金属の析出及び高分子膜の析出などがあります。
（※2）
電着とは、電気分解（単に電解ともいい、一対の電極を電解質溶液などのイオン伝導体に挿入し、外部電源から電流を流して化学変化を起こさせる操作）によって、電極表面に物質が付着して生成することです。
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